1.Erilaiset käyttötarkoitukset

(1) Ultra puhtaan veden laitteiden tarkoitus: 1.Ultrapuhtaiden materiaalien ja reagenssien tuotanto ja puhdistus.Kaksi.Elektronisten tuotteiden tuotanto ja puhdistus.Kolmonen.Akkujen tuotteiden tuotanto.4.Puolijohdetuotteiden tuotanto ja puhdistus.5.Piirilevyn tuotanto ja puhdistus.Kuudes.Muiden huipputekniikan hienojen tuotteiden tuotanto.

(2) Puhtaan veden laitteiden tarkoitus: 1.Voimalaitoksen kemiallinen vedenkäsittely; 2.Elektronisten, puolijohde- ja tarkkuuskoneiden teollisuuden Ultrapuhdasta vettä; 3.Elintarvikkeiden, juomien ja juomaveden valmistus; 4.Pieni puhdas vesipiste, ryhmä juomavettä; 5.Vesi hienolle kemikaalille ja hienolle tieteenalalle; 6.Korkean puhtauden omaavan veden valmistaminen muille teollisuudenaloille; 7.Lääketeollisuuden prosessivesi (prosessivesi)

2.Erilainen veden johtavuus

(1) Ultrapuhtaan veden veden veden laatu: äärimmäisen puhtaan veden laatu ja kestävyys > 15m ΩCm on jaettu viiteen toimialastandardiin, nimittäin 18m ΩCm, 15m ΩCm, 10m ΩCm, 2m ΩCm, 0.5m ΩCm, erottaa toisistaan veden laatu.

(2) Puhdas vesi on jaettu seuraaviin osiin: teollisuuspuhdas vesi ja puhtaan veden juominen teollisuuspuhdas vesi: 25℃, 1.Tavallinen puhdas vesi: EC = 1 = 10us / cm; 2.Puhdas vesi: EC = 0.1 … 1.0us/cm; 3.Ultrapuhdas vesi: EC = 0.1 = 0.055; puhdas juomavesi: EC = 1 = 10 US / cm (kansallinen standardi).